En collaboration avec le Laidlaw Women’s Leadership Fund, l’université d’IE encourage la formation des femmes qui souhaitent avoir un impact positif sur la société grâce à un leadership éthique
Madrid. La Fondation Laidlaw et l’IE Business School, avec le soutien de la Fondation IE, ont uni leurs forces dans un engagement commun pour favoriser l’éducation et la promotion de femmes extraordinaires engagées dans le leadership éthique et l’impact mondial. Dans l’intention de favoriser une nouvelle génération de femmes leaders, le Laidlaw Women’s Leadership Fund soutiendra l’éducation d’un maximum de 24 femmes chaque année sur une période de 3 ans. La première période a débuté en septembre 2024. Les boursières IE Laidlaw pourront suivre un programme de MBA ou d’Executive MBA à l’IE Business School, et participeront à des activités de réseautage, de mentorat et à des événements qui enrichiront leur profil de leadership.
Les bourses couvrent entre 50 % et 100 % des frais de scolarité, en fonction des besoins des candidats, et s’adressent plus particulièrement aux femmes professionnelles originaires de pays émergents, ayant un niveau d’anglais élevé et un fort engagement social.
« La Fondation IE est fière de donner du pouvoir aux femmes qui inspirent, conduisent le changement et créent un impact positif sur la communauté IE et la société dans son ensemble. L’université IE est honorée de collaborer avec la Fondation Laidlaw pour soutenir les femmes leaders et offrir des opportunités à des candidates exceptionnelles issues de milieux socio-économiques défavorisés », a déclaré Gonzalo Garland, vice-président exécutif de la Fondation IE.
« Nous nous sommes engagés à renforcer la présence des femmes dans l’encadrement supérieur. Grâce à ce programme de bourses avec l’IE Business School, notre objectif est d’accélérer la carrière de femmes extraordinaires à des postes de direction », souligne pour sa part Susanna Kempe, PDG de la Fondation Laidlaw.
Pour plus d’informations sur le programme de bourses et la procédure de candidature, veuillez cliquer ici (Eng).
